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您的位置:首頁  -  產(chǎn)品中心  -    -  研磨分散機  -  GMD2000/4硫酸鋇溶液中試型研磨分散機

硫酸鋇溶液中試型研磨分散機

硫酸鋇溶液中試型研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-16
  • 訪  問  量:1411
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產(chǎn)品詳情

硫酸鋇溶液中試型研磨分散機,硫酸鋇溶液研磨分散機,硫酸鋇溶液膠體磨,硫酸鋇溶液研磨機,硫酸鋇研磨分散機

      

SGN硫酸鋇溶液中試型研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

 

硫酸鋇,適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末,密度4.25-4.5,分解溫度>1600℃。溶于熱濃硫酸,幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對石蕊試紙呈中性。
    

對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒   徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時。而使用SGN研磨分散機進行處理,研磨兩遍,粒徑可以細化到5μm,效果好,效率高。

     

研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果,研磨分散機是一臺目前型的研磨分散設(shè)備

      

硫酸鋇CMD2000系列研磨分散設(shè)備SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

 

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

的特點

線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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