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納米氧化鋅研磨分散機(jī)

納米氧化鋅研磨分散機(jī),氧化鋅德國進(jìn)口分散機(jī)可以處理量大,運(yùn)轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料100%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-09-17
  • 訪  問  量:1690
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產(chǎn)品詳情

 納米氧化鋅分散機(jī),納米氧化鋅德國進(jìn)口分散機(jī),納米氧化鋅研磨分散機(jī),高剪切分散機(jī),納米分散機(jī),研磨式分散機(jī)

 

SGN分散機(jī)可以處理量大,運(yùn)轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

 

 

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機(jī)產(chǎn)品,使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價(jià)值,具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。(價(jià)格電議薛:,,公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)?。?/span>

        
納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象,導(dǎo)致粒徑變大。SGN研磨式分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題!

GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G4M,6F8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
                               

GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn):

   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

GMD2000系列設(shè)備選型

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

 

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
 

 

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