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石墨烯分散機(jī)

石墨烯分散機(jī)氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機(jī)是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-09-17
  • 訪  問(wèn)  量:1427
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產(chǎn)品詳情

石墨烯分散機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)介

氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機(jī)是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

 

 

氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機(jī)  在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

 

 

 

氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機(jī)   石墨烯 分散技術(shù)三要素

二、分散劑用量推薦

三、石墨烯 分散劑概述

四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例

五、研磨分散設(shè)備使用建議

石墨烯 分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

詳情:

 

分散設(shè)備

(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制

(2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散石墨烯,中粘度介質(zhì)分散石墨烯

(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散石墨烯

 

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SGN石墨烯研磨設(shè)備采用高速研磨分散技術(shù),通過(guò)高

轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

 

石墨烯分散機(jī),氧化石墨烯削層設(shè)備 ,氧化石墨削層設(shè)備,氧化石墨分散機(jī)  

 設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí) 
  電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、 
  電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
  電機(jī)選配件:PTC 熱保護(hù)、降噪型 
  均質(zhì)機(jī)材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
  均質(zhì)機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車 
  均質(zhì)機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理 
  進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍 
  乳化機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
  分散均質(zhì)機(jī)高剪切分散均質(zhì)機(jī),實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)機(jī) 
  應(yīng)用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥(除草劑、殺蟲(chóng)劑)。

 

 

SGN乳化均質(zhì)機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域:

1. 精細(xì)化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹(shù)脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹(shù)脂乳化、炭墨分散

2. 石油化工、潤(rùn)滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化

3. 農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲(chóng)劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑

4. 生物醫(yī)藥、細(xì)胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣

5. 日用化工、護(hù)膚霜、護(hù)膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精

6. 食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

7. 涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤(rùn)土

詳情:

GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

 

價(jià)格電議  孫:,公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)!,歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)!SGN工程師會(huì)根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型,以及根據(jù)流量做型號(hào)相應(yīng)放大!

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